中科院理化所發(fā)現(xiàn)深紫外非線性光學(xué)羥基硼酸鹽
深紫外非線性光學(xué)晶體通過頻率轉(zhuǎn)換產(chǎn)生深紫外相干光源(波長小于200納米),是當前深紫外全固態(tài)激光技術(shù)的核心元件。 就當前應(yīng)用標準而言,深紫外非線性光學(xué)性能需同時滿足較好的深紫外透過率、較大的倍頻效應(yīng)以及足夠的雙折射率等要求。然而,滿足此標準的晶體材料非常罕見,尋找既有足夠大的光學(xué)帶隙、又能呈現(xiàn)足夠強的二階極性和光學(xué)各向異性的深紫外晶體,較為困難。 中國科學(xué)院院士陳創(chuàng)天提出的陰離子基團理論,為深紫外非線性材料探索提供構(gòu)效關(guān)系規(guī)律,在目前能實現(xiàn)應(yīng)用標準的“中國牌晶體”KBBF族晶體材料的發(fā)現(xiàn)過程中起重要作用。隨著計算技術(shù)的發(fā)展,中科院理化技術(shù)研究所林哲帥課題組基于第一性原理方法,發(fā)展一套計算分析工具,用以精確調(diào)控和闡明深紫外非線性光學(xué)機理,促使ABBF和BBF等系列深紫外非線性材料的實驗發(fā)現(xiàn)。此外,他們又總結(jié)發(fā)展一套深紫外非線性材料計算機輔助建模系統(tǒng)和設(shè)計藍圖(Acc. Chem. Res. 2020, 53, 209-217;Sci. China Mater. 2020, 63, 1597-1612),用以高效評估候選材料的深紫外非線性光學(xué)性能,加速深紫外非線性材料的探索。 |