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- 注冊時間2020-06-19
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摘要 +dh]k=6 @3S2Xb{ra1 VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復雜光學系統(tǒng)中已經(jīng)可以實現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學介質(zhì)實現(xiàn),以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且,幾個高級規(guī)格選項可用,例如,添加一個完整和部分涂層。這個案例解釋了配置的可用選項,并且討論了其對光柵結(jié)構(gòu)的影響。 i]$7w! r& l1wxs@]( O.K8$ cdIy[
1 介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) !P92e1 u%[*;@;9+ T)Nis~ JrL/LGY 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 H[Pb Wy: 可用于設置復雜光學光柵結(jié)構(gòu)(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。 G(0bulq (%fGS.TR 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 4
|5ekwk P7y[9|^ @xkM|N? Ol%*3To 斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項。 7_Q86o 首先,光柵脊和槽的材料必須在基礎參數(shù)選項中定義。 &1':s|c 這些材料既可以從材料目錄選擇,也可以通過折射率定義。 9wb$_j]F`# 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 Ixec]UOS #uXOyiE D@JHi'F !7^He3 在材料設置下面,可以定義光柵的幾何結(jié)構(gòu)。 #/jHnRrQ 以下參數(shù)可用: ev guw*u - 填充率(定義光柵的上部分和下部分) X"1<G3m4 - z擴展(沿著z方向測量光柵高度) O@=mN*<gg0 - 傾斜角度左(脊左側(cè)的傾斜角) gaCGU<L - 傾斜角度右(脊右側(cè)的傾斜角) h.Dk>H_G pM7BdMp 如果傾斜角相同,通過點擊不等號關(guān)聯(lián)兩個設置。 #b"
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