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摘要 u+Ix''Fn#% ~;3#MAG VirtualLab可用于分析任意光柵類(lèi)型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過(guò)特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn),以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且,幾個(gè)高級(jí)規(guī)格選項(xiàng)可用,例如,添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng),并且討論了其對(duì)光柵結(jié)構(gòu)的影響。 A!Cby!, |J,zU6t
I{OizBom ~*7$aj 介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) JyZuj>`
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<TW udqrHR5 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 KR#,6 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。 z^U+oG ?)|}gr 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話(huà)框 9^W7i]-Z >Xk42zvqn sko7,& 0WC\uxT7 斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。
xcr2| 首先,光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。 >^~^#MT 這些材料既可以從材料目錄選擇,也可以通過(guò)折射率定義。 ?4%H(k5A 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話(huà)框 WVRIq' llP
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