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摘要 <S
$Z dge58A)Q VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn),以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且,幾個(gè)高級規(guī)格選項(xiàng)可用,例如,添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng),并且討論了其對光柵結(jié)構(gòu)的影響。 DBCL+QHA ] 5P{* WSDNTfpI f:7Y 介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) F
xFK ~SM2W% (4ow0}1 Q
C~~ 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 rC_K
L 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。 :KX/` z-7F,$ 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 !"2OcDFx Uj k``; \_x)E]D b%$S6. 斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。 6J%SkuxR 首先,光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。 b@1QE 這些材料既可以從材料目錄選擇,也可以通過折射率定義。 dUb(C1h 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 "%f>/k;!h. }'H Da M 7{<F6F^P )QBsyN<x6 在材料設(shè)置下面,可以定義光柵的幾何結(jié)構(gòu)。 cR@z^ 以下參數(shù)可用: 9D<^)ShY - 填充率(定義光柵的上部分和下部分) 9\Xl3j! - z擴(kuò)展(沿著z方向測量光柵高度) ACyQsmqm: - 傾斜角度左(脊左側(cè)的傾斜角) '2# 0UdG - 傾斜角度右(脊右側(cè)的傾斜角) Y%=A>~s*c: JAB]kNvI 如果傾斜角相同,通過點(diǎn)擊不等號(hào)關(guān)聯(lián)兩個(gè)設(shè)置。 5I&^n0h|& pQVi&(
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