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- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2024-11-15
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摘要 Ttt'X<9 $@D a|d4 VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復雜光學系統(tǒng)中已經(jīng)可以實現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學介質(zhì)實現(xiàn),以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且,幾個高級規(guī)格選項可用,例如,添加一個完整和部分涂層。這個案例解釋了配置的可用選項,并且討論了其對光柵結(jié)構(gòu)的影響。 y3zP`^
xWxc1tT` G3~`]qf
t:2v`uk 介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) )h8}{* <Dd>- K CIjc5^Y2 f8Iddm# 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 ?13qDD: 可用于設置復雜光學光柵結(jié)構(gòu)(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。 V)j[`,M: cJ;Nh>ey 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 wI$a1H wDJ`#"5p{ *yu}e)(0 =~B"8@B 斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項。 KJA
:; 首先,光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項中定義。 >]\I:T 這些材料既可以從材料目錄選擇,也可以通過折射率定義。 ieFl4hh[G 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 X\AH^I6S ,#K/+T A&Y5z[p qCV<-o 在材料設置下面,可以定義光柵的幾何結(jié)構(gòu)。 ^[M{s(b 以下參數(shù)可用: 7?$?Yu - 填充率(定義光柵的上部分和下部分) \$ytmtf5 - z擴展(沿著z方向測量光柵高度) F5h/> - 傾斜角度左(脊左側(cè)的傾斜角) 4:`D3 - 傾斜角度右(脊右側(cè)的傾斜角) 54gr'qvr fw%`[(hK 如果傾斜角相同,通過點擊不等號關(guān)聯(lián)兩個設置。 Fx9-A8oIR ,NSf 斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 ZK5nN9` .%zcm \N,ox(f?gW l~c[}
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