10月14日，荷蘭ASML（阿斯麥）公布了光刻機產(chǎn)品的最新進展。其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進光刻機系統(tǒng)，終于敲定最終規(guī)格。具體來說，30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進機器匹配套準精度至1.1nm。 
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3600D定于2021年中旬出貨交付，客戶還需要一定時間等待，價格應(yīng)該不會低于現(xiàn)款老型號的1.2億美元。 w #(XiH*  
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目前，ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進光刻機是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數(shù)方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光125片晶圓。 k~=-o>}C  
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另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了軟件升級。全新的DUV光刻機TWINSCAN NXT:2050i已經(jīng)在三季度結(jié)束驗證，四季度早期開始正式出貨。 *+p'CfsSka  
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據(jù)悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60臺光刻機收入，出貨了10臺EUV光刻機。