上海光機(jī)所在正電子加速方面取得新進(jìn)展
近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所強(qiáng)場激光物理國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在正電子 加速方面取得進(jìn)展,研究團(tuán)隊(duì)首次提出利用相干渡越輻射加速正電子,得到了準(zhǔn)單能的高品質(zhì)正電子源,相關(guān)成果發(fā)表于《通訊-物理學(xué)》(Communications Physics)。
利用激光尾場加速電子研究中,目前實(shí)驗(yàn)室所能獲得的最高電子能量為7.8 GeV。但是對于電子的反物質(zhì)-正電子,利用尾場對其加速面臨著比較嚴(yán)峻的挑戰(zhàn),正電子通常需要預(yù)先產(chǎn)生并注入到尾場中,而且更關(guān)鍵的是會遇到散焦問題的困擾。研究團(tuán)隊(duì)提出了一個(gè)集正電子產(chǎn)生、注入和加速于一體的新方案。該方案分為三個(gè)階段:首先利用激光與氣體靶作用通過尾場加速得到大電荷量小發(fā)散角的高能電子束;然后利用該電子束與銅靶作用,通過Bethe-Heitler(BH)過程產(chǎn)生大量的正負(fù)電子對;第三個(gè)階段則是電子從銅靶后表面逸出時(shí)會產(chǎn)生非常強(qiáng)的相干渡越輻射場,該渡越輻射場能夠捕獲正電子,并使其獲得長距離加速。模擬結(jié)果顯示,相干渡越輻射場能達(dá)到10 GV/m的水平,且經(jīng)過400 mm的加速,正電子的能量峰值為500 MeV,能散為24.3%,截止能量為1.5 GeV。同時(shí),在加速過程中外加了30 T的縱向磁場進(jìn)一步約束電子和正電子。該方案為獲得高能正電子源提供了一種新方法。 圖(a)正電子加速方案示意圖,(b)電子能譜,(c)正電子能譜。 相關(guān)研究得到科技部、中科院先導(dǎo)B項(xiàng)目、中科院科學(xué)裝備研究計(jì)劃和國家自然科學(xué)基金的支持。 原文鏈接:https://www.nature.com/articles/s42005-020-00471-6 關(guān)鍵詞: 正電子加速
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