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韓國(guó)企業(yè)發(fā)力EUV光刻技術(shù) 專利申請(qǐng)量占上風(fēng)

發(fā)布:cyqdesign 2020-11-16 17:49 閱讀:2598
援引韓媒 BusinessKorea 報(bào)道,以三星為代表的韓國(guó)企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。根據(jù)對(duì)韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(KIPO)過去十年(2011-2020)的 EUV 相關(guān)專利統(tǒng)計(jì),在 2014 年達(dá)到 88 項(xiàng)的頂峰,2018 年為 55 項(xiàng),2019 年為 50 項(xiàng)。 jB:$+k|~.  
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特別需要注意的是,韓國(guó)企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)上一直不斷縮和國(guó)外企業(yè)之間的差距。在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局 2019 年收錄的 50 項(xiàng)專利中,其中 40 項(xiàng)是由韓國(guó)人提交的,只有 10 項(xiàng)是外國(guó)人提交的。這也是韓國(guó)人提交的專利首次超過外國(guó)人。到 2020 年,韓國(guó)提交的申請(qǐng)也將是外國(guó)人申請(qǐng)的兩倍以上。 O>w Gc8Of\  
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