援引韓媒 BusinessKorea 報道，以三星為代表的韓國企業(yè)在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。根據對韓國知識產權局（KIPO）過去十年（2011-2020）的 EUV 相關專利統(tǒng)計，在 2014 年達到 88 項的頂峰，2018 年為 55 項，2019 年為 50 項。  RnSll-  
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特別需要注意的是，韓國企業(yè)在 EUV 光刻技術上一直不斷縮和國外企業(yè)之間的差距。在韓國知識產權局 2019 年收錄的 50 項專利中，其中 40 項是由韓國人提交的，只有 10 項是外國人提交的。這也是韓國人提交的專利首次超過外國人。到 2020 年，韓國提交的申請也將是外國人申請的兩倍以上。 "$/1.SX;]  
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EUV 光刻技術整合到多種先進技術，包括多層反射鏡、多層膜、防護膜、光源等等。在過去十年里，包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發(fā)，以確保技術領先。最近，代工公司開始使用 5 納米 EUV 光刻技術來生產智能手機的應用處理器（AP）。 6p9 {z42  
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如果按照公司劃分，前六家公司占到總專利申請量的 59%。其中卡爾蔡司（德國）占18％，三星電子（韓國）占15％，ASML（荷蘭）占11％，S＆S Tech（韓國）占8％，臺積電（中國臺灣）為6％，SK海力士（韓國）為1％。 3a|pk4M  
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如果按照詳細的技術項目來劃分，處理技術（process technology）的專利申請量占32％；曝光設備技術（exposure device technology）的專利申請量占31％；膜技術（mask technology）占比為 28%，其他為 9%。 U[?