中科院科研團(tuán)隊發(fā)明出太赫茲寬帶可調(diào)吸收器
近期,中國科學(xué)院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院強(qiáng)磁場科學(xué)中心研究員盛志高課題組和中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院固體物理研究所、上海科技大學(xué)的研究人員合作,發(fā)明了一種基于強(qiáng)關(guān)聯(lián)氧化物材料的太赫茲寬帶可調(diào)吸收器。
太赫茲吸收器在太赫茲電磁屏蔽、太赫茲成像和太赫茲熱敏探測等領(lǐng)域應(yīng)用前景廣泛,引起學(xué)界關(guān)注。瞄準(zhǔn)未來關(guān)鍵領(lǐng)域的應(yīng)用,要求吸收器有較高的吸收率和較大的帶寬、具備主動可調(diào)功能。為實(shí)現(xiàn)太赫茲寬帶可調(diào)強(qiáng)吸收,材料研發(fā)與器件結(jié)構(gòu)設(shè)計具有重要意義。 研究人員選用強(qiáng)關(guān)聯(lián)電子氧化物作為功能層,采用多層介電結(jié)構(gòu)設(shè)計與光控方法(圖a),實(shí)現(xiàn)了這一關(guān)聯(lián)電子器件在寬波段范圍的太赫茲光譜性能可調(diào)。所選用的關(guān)聯(lián)電子材料二氧化釩在絕緣體-金屬相變前后,電導(dǎo)率、介電常數(shù)和光學(xué)性質(zhì)會發(fā)生變化;這種相變可被溫度、光和電場調(diào)控,因此,其是太赫茲可調(diào)諧器件較好的候選材料。研究人員利用光控方法,在多層器件中實(shí)現(xiàn)了大于74%的調(diào)制深度(圖b);在特定激光能量條件下,可實(shí)現(xiàn)寬帶零反射與接近180°的太赫茲相移(圖c)。通過測試分析,研究人員明確了這種主動太赫茲波譜性能調(diào)控的物理起源。 (a)研究團(tuán)隊選用強(qiáng)關(guān)聯(lián)電子氧化物作為功能層,采用多層介電結(jié)構(gòu)設(shè)計與光控方法;(b)通過光控的方法在多層器件中實(shí)現(xiàn)了大于74%的調(diào)制深度 ;(c)在特定激光能量條件下,可以實(shí)現(xiàn)寬帶零反射與接近180°的太赫茲相移 相關(guān)研究成果發(fā)表在ACS Applied Materials & Interfaces上,研究工作得到國家重點(diǎn)研發(fā)計劃、國家自然科學(xué)基金、中科院前沿科學(xué)重點(diǎn)研究項(xiàng)目、強(qiáng)磁場安徽省實(shí)驗(yàn)室方向基金的支持。 論文鏈接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsami.0c15297 |