晶界作為材料中廣泛存在的重要缺陷，它的結(jié)構(gòu)和行為很大程度上決定了多晶材料的物理、化學(xué)和力學(xué)性能。晶界結(jié)構(gòu)和行為的研究一直是材料科學(xué)的研究焦點(diǎn)之一。雖然透射電子顯微技術(shù)的發(fā)展已將材料研究推進(jìn)到亞埃尺度，但是由于晶界結(jié)構(gòu)本身的復(fù)雜性以及傳統(tǒng)透射電鏡二維投影成像模式的限制，人們對(duì)實(shí)際晶體材料中的晶界結(jié)構(gòu)的認(rèn)知極其有限。因此，從實(shí)驗(yàn)上實(shí)現(xiàn)晶界三維原子結(jié)構(gòu)成像對(duì)深入認(rèn)識(shí)晶界具有重要意義。 \Y)HSJR;e  
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目前，傳統(tǒng)透射電子顯微技術(shù)（包括透射成像或掃描透射成像）可以對(duì)百納米厚度的樣品進(jìn)行形貌和原子結(jié)構(gòu)的投影成像。盡管像差校正技術(shù)已將透射電鏡的分辨率提高到亞埃尺度，但二維投影包含的有限性信息極易使人們對(duì)材料真實(shí)三維結(jié)構(gòu)的認(rèn)識(shí)產(chǎn)生偏差甚至誤解。因此，通過(guò)三維成像直接從納米，甚至原子尺度解析材料的三維結(jié)構(gòu)變得尤為重要。電子層析三維重構(gòu)技術(shù)（Electron Tomography）是電子顯微術(shù)與計(jì)算機(jī)圖像處理相結(jié)合而形成的一門具有重要應(yīng)用前景的新技術(shù)。近年來(lái)，隨著電子顯微鏡、計(jì)算機(jī)技術(shù)和圖像處理算法的發(fā)展，電子層析三維重構(gòu)技術(shù)在生物、化學(xué)和材料科學(xué)等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。 {r&mNbz  
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