中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻機(jī)與阿斯麥談判
業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下,中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就EUV光刻設(shè)備進(jìn)行談判。報(bào)道稱,中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設(shè)備,盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響,但仍存顧慮。
但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下,中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判。 本周二晚,中芯國(guó)際發(fā)布公告稱,蔣尚義獲委任為董事會(huì)副董事長(zhǎng)、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會(huì)成員,自2020年12月15日起生效。 EUV光刻(即極紫外光刻)利用波長(zhǎng)非常短的光,在硅片上形成數(shù)十億個(gè)微小結(jié)構(gòu),構(gòu)成一個(gè)芯片。與老式光刻機(jī)相比,EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。 報(bào)道稱,中芯國(guó)際計(jì)劃利用EUV光刻機(jī)器,來(lái)生產(chǎn)基于7納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。 近日有媒體報(bào)道稱,中芯國(guó)際已經(jīng)從20nm工藝制程,一直攻克到了3nm工藝制程,唯一缺的就是EUV光刻機(jī)。有了EUV光刻機(jī),中芯國(guó)際也能進(jìn)行3nm芯片的量產(chǎn)。 昨日美國(guó)股市收盤時(shí),阿斯麥股價(jià)收于477.30美元,上漲1.2%。今日,中芯國(guó)際股價(jià)收于55.02元,下滑1.77%。 |