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摘要 [/#k$- :g]HB,78 干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡,構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 \CEnOq k:HSB</}
1_dMe%53 h#6 jUQ 建模任務(wù) d9Ow 2KrC GQ8Dj!8 EL)/5-=S "YdDaj</ 元件傾斜引起的干涉條紋 |
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