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摘要 dpE\eXoa, sks_>BM 干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡,構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 XD%?'uUQ_ l_^>spF gEU)UIJ |]r# IpVf 建模任務(wù) *M-.Vor?R rv|k8 +=u*!6S 8*6J\FE<p 元件傾斜引起的干涉條紋 /x-Ja[kL YVu8/D@ o !i}G>*XH, fa5($jJ& 元件移動(dòng)引起的干涉條紋 n'4D
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