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1. 摘要 Do;rY\sY x2+M0 }g 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究,進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 < !]7Gt ~T&X#i ;sd] IZ$# NjSjE_S2B8 2. 建模任務(wù) ;\t(c Y+"Gx;F> I)4NCjcCw 9R4q^tGR\ 3. 概述 7,3v,N| n:YA4t7S
)F:UkS 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 9|//_4] 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 D]d2opBLj ; J8 25CE /f
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3 U6oab9C?k 4. 光線追跡仿真 CB?,[#r5f j(\jYH> i- r y5x 首先,選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 u1(8a%ZC 點(diǎn)擊“Go!”。
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