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1. 摘要 =g M@[2 lV %1I@[M 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 =3w;<1 ?'
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PC<_1!M] 2. 建模任務(wù) nWY^?e'S
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gT}{k! 3. 概述 ]kTx Ve
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示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 tLa%8@;'$
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