ZEMAX光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)實(shí)戰(zhàn)	Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)從基礎(chǔ)到實(shí)踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計(jì)及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨(dú)家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計(jì)與光學(xué)元件	計(jì)算光學(xué)帶來(lái)的成像革命

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2021-04-23

干涉測(cè)量是用于精確測(cè)量中最廣泛應(yīng)用的技術(shù)之一。通過(guò)觀察和研究條紋圖案，可以判斷表面形狀質(zhì)量或關(guān)于光譜帶寬的儀表信息。利用VirtualLab Fusion中非序列場(chǎng)追跡技術(shù)，可以輕松地設(shè)置和分析光學(xué)干涉儀。在這里提出兩個(gè)經(jīng)典的基于邁克爾遜干涉儀的例子：一個(gè)高質(zhì)量相干激光光源，另一個(gè)寬帶白光光源。

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