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上海光機所提出同步調(diào)控ENZ材料飽和與反飽和吸收的原理及方法

發(fā)布:cyqdesign 2021-05-17 09:29 閱讀:862
近期,中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜光學實驗室揭示了Epsilon-Near-Zero(ENZ)材料在超快激光作用下束縛電子和自由電子的競爭行為,提出了同步調(diào)控ENZ材料飽和吸收(SA)與反飽和吸收(RSA)的原理及方法,拓寬了其在ENZ波段的非線性光學響應調(diào)控能力。相關(guān)研究成果發(fā)表在Photonics Research上。 G)putk@   
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ENZ材料是指在特定波長區(qū)間,材料的介電常數(shù)實部趨近于零。理論上,有限的介電常數(shù)變化可獲得大的折射率改變。因此,相比于其他非線性材料,ENZ材料具有更大的非線性光學響應,其是非線性光學領(lǐng)域的研究熱點。 HL)1{[|`  
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該研究中,研究人員探究了典型ENZ材料(氧化銦錫)在飛秒激光作用下的非線性吸收響應,發(fā)現(xiàn)在ENZ波長(1440 nm)泵浦下僅表現(xiàn)為SA效應,但在非ENZ波長(1030 nm)泵浦下,隨著泵浦光強增加由SA轉(zhuǎn)變?yōu)镽SA效應。研究解析了非ENZ波段SA和RSA轉(zhuǎn)變的原理:認為SA效應源于導帶自由電子的漂白過程,RSA效應源于價帶束縛電子的多光子吸收。此外,研究人員還提出了薄膜退火技術(shù)抑制自由電子濃度實現(xiàn)電子漂白和多光子吸收競爭行為的調(diào)控。該方法實現(xiàn)了ENZ波長處120%的飽和吸收到95%的反飽和吸收的調(diào)控。 @4Y>)wn&;  
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圖1.不同波長輻照下ITO薄膜的開孔Z-scan曲線。(a)、(b)1030 nm波長;(c)1440 nm波長
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圖2.退火前后的ITO薄膜在不同波長輻照下的強度依賴歸一化透過率。(a)1030 nm;(b)1440 nm
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該研究從ENZ材料的基本性質(zhì)出發(fā),解析其非線性吸收機理,獲得了同步調(diào)控超快激光SA和RSA的方法,有望發(fā)展在超快光場自適應調(diào)控、光開關(guān)及光限幅方面的新應用。研究工作得到國家自然科學基金和中科院戰(zhàn)略性先導科技專項的支持。 9~4Kbmr>q  
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論文鏈接:https://doi.org/10.1364/PRJ.417642
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