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摘要 ^o C>,%7 7!`1K_v6 高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 @f o(#i& T<nK/lp1t  {be|G^.c b?Q$UMAbH 建模任務(wù) wDiq~! j4@6`[n:  ||cI~qg 概觀 c3fi<?0&| Gl{2"!mt=  (mi=I3A( 光線追跡仿真 Gz\wmH&rVz fRk'\jz T •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 3\ )bg
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•點擊Go！ ri3*~?k00
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 &BKnJ {,H
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 IwbV+mWQ k ?3mFWc 光線追跡仿真 OL#i !ia. 6eB ~S)Ko o"N\l{
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