-
UID:317649
-
- 注冊(cè)時(shí)間2020-06-19
- 最后登錄2024-11-18
- 在線時(shí)間1524小時(shí)
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
摘要 )8p FPr IQf:aX 高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻,顯微鏡等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過場(chǎng)追跡,可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 3qE2mYK fI;6!M#
,1EyT> 9lNO
~8
建模任務(wù) "detDB
9^QiFgJy ^.aFns{wv 概觀 n.n;'p9t@ e82SG8#] _Je<_pl!D 光線追跡仿真 o(Yfnnuy d}j%.JJK •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作為仿真引擎。 v8W
|