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    [分享]高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-05-19
    摘要 ]lA.?  
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    高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 <v$yXA  
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    建模任務(wù) &u0on) E  
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    概觀 qWw{c&{Q],  
    ef]60OtP  
    O*PJr[Zou  
    光線追跡仿真 eG%Q 3h  
    B/b S:  
    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 kcZz WG|n  
    ;1>)p x**  
    •點(diǎn)擊Go！ k>!A~gfP~  
    •獲得3D光線追跡結(jié)果。 lU%