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摘要 Sud5F4S sGD b< 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度,檢測系統(tǒng)常使用一個(gè)高NA的物鏡,工作在紫外波長范圍。作為一個(gè)例子,模擬了一個(gè)完整的晶片檢測系統(tǒng),包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用,并演示了圖像的形成。 /.aDQ> M0zlB{eH *n%J#[e( 建模任務(wù) 7|Tu@0XXA yjP;o`z%
!(<Yc5 結(jié)果 )v67wn*1A AyMMr_q 5:H9B 結(jié)果 pB;p\9A*q
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