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摘要 3`^@ymY io4<HN 在半導體產業(yè)中,晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結構的圖像解析度,檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡,工作在紫外波長范圍。作為一個例子,模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng),包括高NA聚焦效應和光與微結構的互作用,并演示了圖像的形成。 8o~
NJ 6 Z`S#> o lz,M$HG<[ 建模任務 +RooU?Aq U^dfNi@q X8)k'h 結果 QLd*f[n AF'< q1}!O
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