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內(nèi)容簡(jiǎn)介: /G{&[X<4U u/;_?zI 1.在VirtualLab中如何進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì); avmcGyL 2.!1kije 2.在VirtualLab中如何導(dǎo)入和導(dǎo)出加工數(shù)據(jù)。 f_~}X#._ L,E-z_<p 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) ^M[#^wv, 1) 點(diǎn)擊 ,打開示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 9)jo7,VM 5Ws5X_?d fYb KmB 2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布,默認(rèn)為振幅視圖. 點(diǎn)擊 ,將默認(rèn)的振幅視圖轉(zhuǎn)換為相位視圖,點(diǎn)擊“結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)(Structure Design)”開始設(shè)計(jì)可產(chǎn)生該相位分布的對(duì)應(yīng)結(jié)構(gòu) U.Pa7tn /4(Z`e;0 E1^aAlVSD 3) 進(jìn)入(基于薄元近似)的純相位透射結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)系統(tǒng)窗口 !NILpimi !p-'t] 目標(biāo)(Target)標(biāo)簽,可以選擇將設(shè)計(jì)好的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)元件放在新的LPD中還是已有的LPD中 rf)PAdj|~ 4u@yJ?U 光學(xué)設(shè)置(Optical Setup)標(biāo)簽,在此標(biāo)簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate),并可選擇基板介質(zhì)(Substrate Medium)和元件周圍的介質(zhì)(Surrounding Medium),同時(shí)可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長(zhǎng)(Wavelength)。 ?OdV1xB t) ; _RN/7\ 光學(xué)界面參數(shù)(Interface Parameters)標(biāo)簽,在相位展開模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(None),以及不進(jìn)行強(qiáng)制分層(Enforce Quantization),即不產(chǎn)生離散界面,并選擇像素化的高度輪廓(最臨近點(diǎn)插值)[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]對(duì)取樣光學(xué)界面進(jìn)行插值 6.k^m&-A #8S [z5 ` XCW+ pUX 4) 完成結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),在新的LPD中設(shè)計(jì)好的結(jié)構(gòu)已經(jīng)包含在名為“Generated Structure Design Component”的元件中 an-\k*w FP.(E9 m};
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