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彈性發(fā)射光學(xué)制造技術(shù)研究進(jìn)展
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彈性發(fā)射光學(xué)制造技術(shù)研究進(jìn)展
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gangzi0801
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光學(xué)制造
深紫外光刻、極紫外光刻和先進(jìn)
光源
等現(xiàn)代
光學(xué)
工程需求牽引先進(jìn)
光學(xué)制造
技術(shù)持續(xù)發(fā)展,要求超光滑
光學(xué)元件
表面粗糙度達(dá)到原子級(jí)水平以及表面全頻段面形誤差達(dá)到RMS(Root Mean Square)亞
納米
量級(jí)甚至幾十皮米,推動(dòng)超光滑光學(xué)元件制造要求不斷逼近
物理
極限。目前,對(duì)于如何實(shí)現(xiàn)上述超高
精度
要求的超光滑加工技術(shù)及裝備仍然存在技術(shù)挑戰(zhàn)。尤其對(duì)如何實(shí)現(xiàn)柱面,橢球面,超環(huán)面等復(fù)雜
曲面
的原子量級(jí)超光滑加工仍是國(guó)內(nèi)外前沿研究方向。彈性發(fā)射加工技術(shù)是一種去除函數(shù)穩(wěn)定,超低亞表面缺陷,面向原子級(jí)的超光滑加工方法,可以作為加工上述精度要求光學(xué)元件的手段。本文總結(jié)了彈性發(fā)射加工技術(shù)的國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀及最新進(jìn)展,歸納了彈性發(fā)射加工技術(shù)的
原理
,包含流體特性、
拋光
顆粒運(yùn)動(dòng)特性和化學(xué)特性,彈性發(fā)射加工裝備,影響彈性發(fā)射加工技術(shù)表面粗糙度提升和
材料
去除效率的因素,分析了彈性發(fā)射加工技術(shù)面臨的問(wèn)題,展望了未來(lái)的發(fā)展方向,期望為彈性發(fā)射加工技術(shù)進(jìn)一步發(fā)展和應(yīng)用提供一定的參考。
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zhangyuqian1
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wjt2026388
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發(fā)表于: 2021-10-17
有光學(xué)透鏡材料(牌號(hào))判定的同仁沒(méi)有,我這里可以無(wú)損檢測(cè)透鏡材料(折射率),準(zhǔn)確度到小數(shù)點(diǎn)后3位或4位。也可以測(cè)透鏡透過(guò)率(紫外可見(jiàn)近紅外) 13683273427 武
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jurry
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發(fā)表于: 2021-11-05
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X"iy.@7
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