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摘要 o<f#Zi
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VirtualLab可用于分析任意光柵類(lèi)型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)，并且其重要性在提高。斜光柵通過(guò)特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn)，以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且，幾個(gè)高級(jí)規(guī)格選項(xiàng)可用，例如，添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng)，并且討論了其對(duì)光柵結(jié)構(gòu)的影響。 @:M ?Re`L
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介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) )h&*b9[B=
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 k@RIM ( ^t ywl7bU- f 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 Q*c |!<
&e 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。 1}#RUqFrvS
z!0 }Kj 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話(huà)框 ;A3aUN;"I \.AI;^)X@]  V!3.MQM
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斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。 MV,;l94?%=
首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。 eCI0o5U
這些材料既可以從材料目錄選擇，也可以通過(guò)折射率定義。 |-'.\)7: 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話(huà)框 `
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在材料設(shè)置下面，可以定義光柵的幾何結(jié)構(gòu)。 9>1
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以下參數(shù)可用： Z"u|-RoBV
- 填充率（定義光柵的上部分和下部分） yS2[V,vS7
- z擴(kuò)展（沿著z方向測(cè)量光柵高度） w*3DIVlxL
- 傾斜角度左（脊左側(cè)的傾斜角） p#T^o]+
- 傾斜角度右（脊右側(cè)的傾斜角） F,l% SQCyj
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如果傾斜角相同，通過(guò)點(diǎn)擊不等號(hào)關(guān)聯(lián)兩個(gè)設(shè)置。 ~l@-gAyw 5( }Qg9% 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話(huà)框 _hy<11S; x.:k0;%Q
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為了添加可配置的涂層，必須激活應(yīng)用涂層（Apply Coating）選項(xiàng)。 U if61)+!i
現(xiàn)在，額外的選項(xiàng)和結(jié)構(gòu)的圖形一起顯示。 0
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