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薄膜測量設備（膜厚、n、k等）

發(fā)布：george1977 2007-03-15 10:44 閱讀：3347
美國Filmetrics公司F20系列薄膜測量設備：可精確快速測量各種光學及半導體薄膜的厚度、折射率及消光系數(shù)等。 'ExTnv ~  
精度：0.4%或1埃 %P`|kPW1  
測量速度：秒級 f4+}k GJN  
光譜范圍：紫外到紅外 1*]@1DJt  
厚度范圍：幾十埃到幾百微米