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摘要 vz3#.a~2
yNOoAnGT W 光學各向異性，也被稱為雙折射，是產(chǎn)生各種光學現(xiàn)象及其相關應用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴格的場跟蹤分析算法，該算法應用于S矩陣求解器，并工作在k域。在本應用案例中，介紹了各向異性介質(zhì)的基本配置。 MyaJhA6c 9#b/D&pX5
 'o%6TWl9s h"t\x}8qq 目錄中的各向異性介質(zhì) +wxDK A_ Am"e% |:
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E8"$vl&c] 定義各向異性介質(zhì) Lf+"G p 雙軸晶體由三個方向的主折射率定義； 'e:(61_ 單軸晶體由o折射率和e折射率定義; ?3a: ntX h 一般各向異性介質(zhì)可以通過直接定義介電常數(shù)張量建立。 /a? qtRw YuFR*W;$ SaSj9 \o 各向異性介質(zhì)預覽 /M Z^;XG )%v nl~i! W.Z`kH *B
預配置晶體 & l?AC%a5
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