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    [技術(shù)]VirtualLab Fusion中的光學(xué)各向異性介質(zhì) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-11-04
    摘要 `Ac:f5a  
     ZH\0=l)  
    光學(xué)各向異性，也被稱為雙折射，是產(chǎn)生各種光學(xué)現(xiàn)象及其相關(guān)應(yīng)用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴(yán)格的場跟蹤分析算法，該算法應(yīng)用于S矩陣求解器，并工作在k域。在本應(yīng)用案例中，介紹了各向異性介質(zhì)的基本配置。 V{43HA10b  
    L_E^}^1!  
      ,Qat  
     ~q*i;*  
    目錄中的各向異性介質(zhì) 6 4?Pfir6  
    VK9Q?nu  
    q5%2WM]6  
     iOl%-Y  
    定義各向異性介質(zhì) U9x4j_.q  
    雙軸晶體由三個方向的主折射率定義； v}Z9+ yRC2  
    單軸晶體由o折射率和e折射率定義; o1e4.-xI  
    一般各向異性介質(zhì)可以通過直接定義介電常數(shù)張量建立。 +Dd"41  
    K*[9j 0  
    6*sw,sU[y  
    各向異性介質(zhì)預(yù)覽 -<xyC8 $^$  
    FQ U\0<5  
    ,E%1Uq"  
    預(yù)配置晶體 tL1P<1j_  
     itw{;j   
    VitualLab Fusion提供了一系列預(yù)設(shè)的晶體介質(zhì)，可以從介質(zhì)(Media)目錄中訪問。用戶還可以在目錄中導(dǎo)入和導(dǎo)出自定義的介質(zhì)。 i^R{Ul[  
    DTPay1]6  
    ;xhOj<:  
    各向異性涂層 juH wHt  
     X R4