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PC硬化基材上鍍ITO膜,100度高溫環(huán)測(cè)ITO膜裂
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PC硬化基材上鍍ITO膜,100度高溫環(huán)測(cè)ITO膜裂
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fanrongwei11
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發(fā)表于: 2021-11-25
PC基底硬化后進(jìn)行加霍爾離子源輔助熱鍍(100°C-200°C)ITO膜,氧分壓在2.2-2Pa,鍍完也都有冷卻1小時(shí)以上,但鍍完100℃烘烤一小時(shí)后ITO膜均出現(xiàn)了開(kāi)裂,也試過(guò)了不加溫和不加離子源輔助,但鍍產(chǎn)品的
光電
性能太差了,方阻太大透過(guò)太小,100
℃烘烤后倒是不膜裂了,
請(qǐng)教下各位大神,如何進(jìn)行
工藝
改善?
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ouyuu
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發(fā)表于: 2021-12-24
溫度太高了吧。霍爾源本來(lái)就有加熱作用,可以適當(dāng)減少一點(diǎn)鍍膜的溫度。
:Ixx<9c.
這個(gè)條件要慢慢抓,因?yàn)殡x子源電子槍對(duì)基板都有加熱作用。
!0VfbY9C
而且PC用鹵素?zé)粽丈浔容^好(鍍膜面加熱效果比較好)
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fanrongwei11
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發(fā)表于: 2022-01-03
多謝大神的專業(yè)指導(dǎo),不過(guò)我們的鍍膜機(jī)是上加熱,加熱絲加熱的,接下來(lái)我會(huì)試著向這個(gè)參數(shù)方向調(diào)試的,希望能調(diào)試出合格的工藝。
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發(fā)表于: 2022-06-23
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4樓
發(fā)表于: 2022-08-31
試試降低離子源能量
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