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    [求助]PC硬化基材上鍍ITO膜,100度高溫環(huán)測(cè)ITO膜裂 [復(fù)制鏈接]

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    離線fanrongwei11
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-11-25
    PC基底硬化后進(jìn)行加霍爾離子源輔助熱鍍(100°C-200°C)ITO膜,氧分壓在2.2-2Pa,鍍完也都有冷卻1小時(shí)以上,但鍍完100℃烘烤一小時(shí)后ITO膜均出現(xiàn)了開裂,也試過了不加溫和不加離子源輔助,但鍍產(chǎn)品的光電性能太差了,方阻太大透過太小,100℃烘烤后倒是不膜裂了,請(qǐng)教下各位大神,如何進(jìn)行工藝改善?
     
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    離線ouyuu
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2021-12-24
    溫度太高了吧;魻栐幢緛砭陀屑訜嶙饔,可以適當(dāng)減少一點(diǎn)鍍膜的溫度。 7$I *ju_  
    這個(gè)條件要慢慢抓,因?yàn)殡x子源電子槍對(duì)基板都有加熱作用。 0B~Q.tyP  
    而且PC用鹵素?zé)粽丈浔容^好(鍍膜面加熱效果比較好)
    離線fanrongwei11
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2022-01-03
    多謝大神的專業(yè)指導(dǎo),不過我們的鍍膜機(jī)是上加熱,加熱絲加熱的,接下來我會(huì)試著向這個(gè)參數(shù)方向調(diào)試的,希望能調(diào)試出合格的工藝。
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2022-06-23
    學(xué)習(xí)學(xué)習(xí)
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2022-08-31
    試試降低離子源能量