各位大佬，磁控濺射鍍膜過程中的電子損傷能用什么辦法檢測出來嘛，電子損傷有什么辦法將其消除或者規(guī)避掉嘛？

是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ `,7;2ZG~O  
有些問題屬于小知識小竅門，網(wǎng)上問的到結(jié)果。 0]u=GD%  
有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術(shù)和工藝， Iq% 0fX  
屬于保密范疇，網(wǎng)上是問不到結(jié)果的。 y88lkV4a  

ouyuu:是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ kM o7mkV  
有些問題屬于小知識小竅門，網(wǎng)上問的到結(jié)果。 KU5|~1t 4  
有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術(shù)和工藝， #>[5NQ;$'  
屬于保密范疇，網(wǎng)上是問不到結(jié)果的。 LE>b_gQ$ 2  
 (2021-12-16 11:58)  ?T\_"G  

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好滴，謝謝。這個電子損傷主要是濺射沉積過程中產(chǎn)生的電子，包括二次電子，應(yīng)該不包括靜電。

這樣…… {I"`
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我這邊只做過新柯隆，他們家是先濺射再氧化的。 j+-+<h/(  
氧化的時候多余的氧離子就可以把電子中和了，所以之前也沒有關(guān)注過這種問題。 H6! <y-
  
你們能不能鍍膜的時候加上一個氧化源？

ouyuu:這樣…… w6w'Jx  
我這邊只做過新柯隆，他們家是先濺射再氧化的。 ! !9l@  
氧化的時候多余的氧離子就可以把電子中和了，所以之前也沒有關(guān)注過這種問題。 f}