各位大佬，磁控濺射鍍膜過程中的電子損傷能用什么辦法檢測出來嘛，電子損傷有什么辦法將其消除或者規(guī)避掉嘛？

是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ Q3Z%a|3W  
有些問題屬于小知識小竅門，網上問的到結果。 tFvgvx\:  
有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術和工藝， (U(/C5'  
屬于保密范疇，網上是問不到結果的。 UR/qVO?  

ouyuu:是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ < 72s7*Rv  
有些問題屬于小知識小竅門，網上問的到結果。 ERp:EZ'  
有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術和工藝， i(M(OR/4  
屬于保密范疇，網上是問不到結果的。 q3c*<n g#  
 (2021-12-16 11:58)  (MgL"8TS  

tk`: CT *  
好滴，謝謝。這個電子損傷主要是濺射沉積過程中產生的電子，包括二次電子，應該不包括靜電。

這樣…… "t5 +*  
我這邊只做過新柯隆，他們家是先濺射再氧化的。 _, \y2&KT  
氧化的時候多余的氧離子就可以把電子中和了，所以之前也沒有關注過這種問題。 ?JuX~{{.L  
你們能不能鍍膜的時候加上一個氧化源？

ouyuu:這樣…… _i-\mR_~  
我這邊只做過新柯隆，他們家是先濺射再氧化的。 Dz,uS nnm  
氧化的時候多余的氧離子就可以把電子中和了，所以之前也沒有關注過這種問題。 Po!oN~r  
你們能不能鍍膜的時候加上一個氧化源？ (2021-12-24 11:13) 
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好滴，謝謝，這個加入氧化源是不是相當于反應濺射

hxn123:好滴，謝謝，這個加入氧化源是不是相當于反應濺射 (2021-12-28 23:10)  ,}KwP*:Z  

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是的。