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    [技術(shù)]用于AR/MR的光波導(dǎo)足跡分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-04-20
    用于增強(qiáng)或混合現(xiàn)實(shí)應(yīng)用的任何類型的光導(dǎo)系統(tǒng)，其設(shè)計(jì)過程中的一個(gè)主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴(kuò)展器光柵區(qū)域的配置。為此，對(duì)光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進(jìn)行快速而簡單的概述非常有幫助：足跡分析。借助足跡和光柵分析工具，VirtualLab提供了一個(gè)強(qiáng)大的工具，可在此過程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中，討論了這個(gè)多功能工具的選項(xiàng)和功能。 A g/z\kX  
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    足跡和光柵分析工具 P(A%z2Ql  
     足跡和光柵分析工具是光導(dǎo)工具箱黃金版的一個(gè)特色。 a/>={mb Ki  
     它可以在開始功能區(qū)的光導(dǎo)部分進(jìn)行初始化。 -!wm]kx f  
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    操作工具的基本流程 P9X/yZ42  
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    步驟1：選擇要分析的設(shè)置。它可以通過布局設(shè)計(jì)工具生成，詳見： ;uR8pz e  
     W c-P= J*m  
    光導(dǎo)布局設(shè)計(jì)工具 ?$=N!>P#  
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    但是請(qǐng)注意，足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個(gè)文件。 [dOPOA/d  
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    <<4G GO  
    步驟2：定義該工具應(yīng)該考慮的視場范圍。 r&Za*TD^  
    步驟3：單擊分析按鈕。關(guān)于分析進(jìn)度的詳細(xì)信息將在按鈕下方的面板中提供。 pS0-<-\R  
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    理想和實(shí)際光柵結(jié)果 =We}&80 x  
     eT:%i"C  
    足跡和光柵分析工具的結(jié)果可以分為兩個(gè)方面： G8akMd]2  
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     +w GE  
    +,c;Dff  
    相互作用的足跡數(shù)據(jù) TZ-n)rC)v  
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