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高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。 v}) -:
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VvS ^f 建模任務(wù) L'KgB=5K&i ;O Td<  \i}:Vb(^ 概述 /1!Wet}f <z2*T \B!8 •案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。 ' u)zQAaw. •接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。 n}T;q1 LYV\|a{Y
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]()#z 光線追跡仿真 0IP5 &[-P dh;
L! •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。 J s'#= •單擊go！ u*:;O\6l •獲得了3D光線追跡結(jié)果。 {dk%j ~w8 Px$4.b[{_Y
 =Ll:Ba Q p^yuz ( 光線追跡仿真 YR\pt8(z? P_:~!+W, •然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。 O:hCUr •單擊go！ $vQ#ah/k •結(jié)果得到點圖（二維光線追跡結(jié)果）。 LKx<hl$O b-Q%c xJ
 FkS$x'~2$ hh$V[/iK 場追跡仿真 th 9I]g^=t $ !Pm*s •切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。 pod=|(c •單擊go！ bL)7 /E W
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RdtF5#\z 場追跡仿真（相機探測器） m&36$>r= ^#Ruw?D •上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。 kg@Okz N% •下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。 o(w xu) I<["ko,t@?
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