在傳統(tǒng)的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個
圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱為RCWA)在
VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進行了建模。探測得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。
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, 建模任務 $`%Om WW{ z$d<ep{6 mvTp,^1 結構和
材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
Ac*J;fI M=&,+#z<V 某一位置的Talbot圖樣 [dz3k@ >0
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