在傳統(tǒng)的Talbot光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通過傅立葉模態(tài)法（FMM，也稱為RCWA）在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測得到不同的Talbot像，柱狀圖位于主像面上，孔狀圖位于次像面上。 <,y> W!  
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建模任務(wù) R1(3c*0f  
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    結(jié)構(gòu)和材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) od^ylg>K  
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某一位置的Talbot圖樣 q`UaJ_7  
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某一位置的Talbot圖樣 1:J+`mzpl  
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