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=*=P8&5 作為最著名的
衍射效應之一，泰伯(Talbot)效應可以用于光刻技術(shù)中以制造周期性
納米結(jié)構(gòu)。繼I.-H. Lee等人，我們在六邊形網(wǎng)格上構(gòu)造了一個圓錐形
光柵掩膜版，并以深度方式
模擬了Talbot圖像的生成。 特別是，由于光刻過程中使用的紫外光是非
偏振的，因此我們在示例中演示了如何為
VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。
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圓錐形相位掩模的Talbot圖像 qpa}6JVQ+j
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2:K X 在VirtualLab Fusion中對帶有圓錐體的相位掩模版進行了建模。檢測到不同的Talbot圖像，以使柱形圖案位于主像平面中，而孔圖案出現(xiàn)在次像平面中。
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