不需EUV光刻機(jī) 國內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線2023年建成
如今,光刻機(jī)一直限制著國產(chǎn)芯片的發(fā)展,為了突破限制,國家正在大力推進(jìn)光子芯片,其原理跟硅芯片不同,運(yùn)算速度可提升 1000 倍以上,而且不依賴先進(jìn)的光刻機(jī),比如 EUV 光刻機(jī),因此是各國爭相發(fā)展的新一代信息科技。 近日,有消息稱,國內(nèi)首條 " 多材料、跨尺寸 " 的光子芯片生產(chǎn)線已在籌備,預(yù)計將于 2023 年在京建成,可滿足通信、數(shù)據(jù)中心、激光雷達(dá)、微波光子、醫(yī)療檢測等領(lǐng)域需求,有望填補(bǔ)我國在光子芯片晶圓代工領(lǐng)域的空白。 |