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    [其它]二氧化硅在光學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-11-13
    關(guān)鍵詞: 二氧化硅
    二氧化硅具有優(yōu)異的光透過(guò)性、絕緣性、抗磨性、較寬的禁帶寬度以及化學(xué)惰性等性能,作為真空鍍膜材料光學(xué)、微電子等領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用,如光學(xué)系統(tǒng)中的增透減反膜、微電子器件上的介電層等。 R I:kp.V  
    wVF qkJ  
    在光學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用納米材料合成的單層薄膜和多層薄膜主要用來(lái)作為紅外線反射材料。納米微粒的膜材料在燈泡工業(yè)中有著良好的應(yīng)用前景。20世紀(jì)80年代以來(lái),人們用納米SiO2(VK-SP30)和TiO2制成多層干涉膜,襯在燈泡罩的內(nèi)壁,結(jié)果不但透光率好,而且有很強(qiáng)的紅外反射能力。 NLt"yD3t  
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    二氧化硅還可用于光纖端頭的鍍膜使用,在高真空環(huán)境中,通過(guò)膜系設(shè)計(jì),與高折射材料例Ta2O5,相互配合鍍膜于光纖端頭,從而達(dá)到提升光纖的透過(guò)或高反的目的。 -'^:+FU  
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