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如何將光聚焦到一個(gè)越來(lái)越小的光斑上，是光學(xué)領(lǐng)域中一直存在的問(wèn)題，特別是最近，已發(fā)展出各種旨在深聚焦光的方法。研究高數(shù)值孔徑條件下的光聚焦通常需要全矢量電磁仿真技術(shù)。我們使用VirtualLab Fusion軟件演示了不同偏振態(tài)(如徑向)和孔徑形狀(如環(huán)形)對(duì)聚焦區(qū)域電磁場(chǎng)的影響，這種分析既可以用理想透鏡，也可以用具有明確結(jié)構(gòu)和材料信息的真實(shí)透鏡進(jìn)行。 CVk.Ez6  
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VirtualLab Fusion中的消球差透鏡模型，為分析具有不同形狀孔徑的各種偏振矢量場(chǎng)的聚焦效果，提供了一種簡(jiǎn)便的方法。 W.|r=   
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高NA物鏡廣泛應(yīng)用于光刻、顯微等領(lǐng)域。在對(duì)這種聚焦系統(tǒng)的仿真中，考慮光的矢量特性是非常重