(\qf>l+* 干涉測量是一種
光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，
機(jī)械和高
精度熱變形等領(lǐng)域的測量。 作為一個(gè)典型的例程，在非
序列場追跡的幫助下，我們在
VirtualLab Fusion中建立了具有相干
激光源的馬赫-曾德爾
干涉儀，本案例清楚地展示了
光學(xué)元件的傾斜和移位對干涉條紋圖案的影響。
>:.c?{%g* += W(c8~P 建模任務(wù) pauO_'j_1p >FeCa
h Fn l9QI
