摘要 ^2=11 ki39$A'8 *1|&uE&_R 因?yàn)閮A斜
光柵在特定
衍射級(jí)中具有高效率,故通常被用于將光耦合到
光學(xué)光波導(dǎo)中。 如今,它們經(jīng)常應(yīng)用于增強(qiáng)和混合現(xiàn)實(shí)應(yīng)用中。 本案將展示如何使用
VirtualLab Fusion對(duì)文獻(xiàn)中的某些傾斜光柵的幾何形狀,具體
參數(shù)如傾斜
角度,填充因子和調(diào)制深度進(jìn)行分析。 此外,本案例還研究了不同入射角對(duì)衍射效率的影響。
rF'q\tJDz J'W6NitMr 建模任務(wù) YFeF(k!!n !A qSG- 衍射效率與相對(duì)深度 y\]:&)?&C^ SRyAW\*LWU -Z9e}$q$, 在VirtualLab Fusion中通過(guò)傅里葉模態(tài)法(FMM)(也稱為RCWA)進(jìn)行
仿真。
s"s^rC XX+%:,G pkQEry&Z %8s$l'Q; 參考文獻(xiàn):J. Michael Miller, Nicole de Beaucoudrey, Pierre Chavel, Jari Turunen, and Edmond
qf#Ou Cambril, "Design and fabrication of binary slanted surface-relief gratings for a planar optical interconnection," Appl. Opt. 36, 5717-5727 (1997)
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\b6H4aQii c"~+Y2]tL 參考文獻(xiàn):J. Michael Miller, Nicole de Beaucoudrey, Pierre Chavel, Jari Turunen, and Edmond Cambril, "Design and fabrication of binary slanted surface-relief gratings for a planar optical interconnection," Appl. Opt. 36, 5717-5727 (1997)
A&XI1. j6 MF69n,(o 衍射效率與填充因子 {oOzXc6o Em?bV( 在VirtualLab Fusion中通過(guò)傅里葉模態(tài)法(FMM)(也稱為RCWA)進(jìn)行仿真。
8`M) r'5 06X4mu{ Gf*|f"O 參考文獻(xiàn):J. Michael Miller, Nicole de Beaucoudrey, Pierre Chavel, Jari Turunen, and Edmond
L;6L@D6 Cambril, "Design and fabrication of binaryslanted surface-relief gratings for a planar optical interconnection," Appl. Opt. 36, 5717-5727 (1997).
;W 16Hr Z SHWD@WLE4 衍射效率與變化的入射角 Z7)la
| zg>4/10P1q 光柵衍射效率通常受入射角影響較大。
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