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高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 7,zE?KG /  
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建模任務(wù) L{rd',  
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概觀 {[
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光線追跡仿真 gD2P)7:  
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•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 bz}-[W+  
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•點(diǎn)擊Go！  md,KRE  
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 4xH/a1&p=  
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光線追跡仿真 Ra"hdxH  
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•然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 Au6Y]  
•單擊Go！ H~^)^6)^T  
•結(jié)果，獲得點(diǎn)列圖（2D光線追跡結(jié)果）。 }
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場追跡仿真 7WwE] ^M  
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