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    [求助]哪位大神來看看這個(gè)晶控設(shè)置監(jiān)控的問題 [復(fù)制鏈接]

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    離線qq287909811
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-02-10
    關(guān)鍵詞: 晶控
    這個(gè)25秒是什么意思?是說明書上說的25秒后開始監(jiān)控嗎?我感覺不是 -ouJf}#R  
    $Kz\ h#}  
     
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    離線coldking
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2023-02-13
    不穩(wěn)定的時(shí)間,一開始不穩(wěn)定25秒後必須要穩(wěn)定,不然發(fā)警報(bào)?
    離線譚健
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2023-02-13
    路過看看
    離線ouyuu
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2023-02-16
    剛開始鍍膜的時(shí)候,因?yàn)闊釠_擊水晶片的速率是不穩(wěn)的。 U)`3[fo  
    甚至因?yàn)樯郎剡^快會(huì)有負(fù)速率。所以需要一個(gè)時(shí)間來緩沖。 SJ@8[n.x  
    C*{15!d:G  
    有一種辦法就是直接把鍍膜開始后幾秒內(nèi)的膜厚清零,不知道是不是這種辦法。 D)*_{   
    (ciGLfNG  
    這個(gè)問題,膜林的張博士是專家,他的答案應(yīng)該是最準(zhǔn)確的。
    離線morningtech
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2023-02-17
    版主抬舉了。 f>s#Ngvc  
    我公司晶控儀里有一個(gè)最大功率延遲時(shí)間,在材料第4頁。 ~b>nCP8q  
    它有兩個(gè)作用, 2pxWv )0  
    一是成膜開始后,在此時(shí)間內(nèi),實(shí)際最大功率從預(yù)熔功率線性變化到設(shè)定的最大功率。抑制速率過沖用。 zfP[1  
    二是成膜開始后,在此時(shí)間內(nèi),如果有負(fù)速率,則丟棄因此產(chǎn)生的負(fù)厚度。正?瓷先ハ窈穸惹辶。在配置參數(shù)里設(shè)置此功能是否使用。用于部分補(bǔ)償溫度等效應(yīng)引起的厚度偏差。 在有離子源輔助時(shí)會(huì)發(fā)現(xiàn)作用明顯,厚度一致性會(huì)提高。(這個(gè)丟棄的負(fù)厚度累積值作為內(nèi)部過程參數(shù)會(huì)出現(xiàn)在 探頭與接口界面,每層重新累積。在我公司 MXC-3 晶控儀里,可以在未關(guān)機(jī)的情況下,編程發(fā)串口指令讀取一定層數(shù)的負(fù)厚度記錄,僅作為當(dāng)時(shí)研究之用,沒有對(duì)外公布指令,有興趣的可以聯(lián)系)。 Lt;.Nw  
    另外,如果我公司晶控儀設(shè)置成計(jì)算機(jī)控制,其將作為單層膜控制器使用,材料1的參數(shù)成為開機(jī)默認(rèn)材料參數(shù)。 ~51kiQW  
    Sr ztTfY  
    但這是客戶計(jì)算機(jī)上的設(shè)置,內(nèi)部什么操作,我并不清楚。