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在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度，檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡，工作在紫外波長范圍。作為一個例子，模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng)，包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用，并演示了圖像的形成。 cf0D q ~G
=6TD3k6(2 K_B-K K(^ 建模任務(wù) dg1h< ]T"9 HLU'1 As65 nV%1/e"5 結(jié)果 v }ZQC8wL ~ 8Z0{^ j xr~cp?4 結(jié)果 LQs2!]?HT eVDI7W:(Sn  _S# uxgL<
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