近期，中科院上海光機所強場激光物理國家重點實驗室研究團隊實現了鈮酸鋰薄膜有源無源的同片集成，以低損耗的穩(wěn)定拼接，實現了鈮酸鋰光學芯片的完整功能集成。相關成果以“Monolithically integrated active passive waveguide array fabricated on thin film lithium niobate using a single continuous photolithography process”為題發(fā)表在Laser & Photonics Reviews上，并入選當期卷首插圖。  \4ghYQ:  
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單晶鈮酸鋰(LN)具有寬的透明窗口、較高的折射率以及較大的聲光、非線性和電光系數，是一種極具吸引力的光子材料。將大塊LN晶體轉化為薄膜鈮酸鋰(TFLN)，進一步使制備高性能集成光子器件成為可能，可用于經典和量子應用，如低損耗波導、高質量微諧振器、高速調制器和高效光變頻器等。為了實現集成有源光子器件，摻鉺鈮酸鋰薄膜最近被用于演示微腔激光器、波導放大器、量子發(fā)射器和量子記憶。然而，由于難以實現高精度對準、低損耗接口和可靠的鍵合，在摻雜稀土離子的鈮酸鋰薄膜上制備的有源器件與單晶鈮酸鋰薄膜上的無源光子器件的單片集成之前一直沒有實現。在這項工作中，該研究團隊首次展示了一個魯棒的低損耗的鈮酸鋰光子學接口，通過拼接有源和無源鈮酸鋰得到集成樣品，隨后，對集成器件的掩模進行單次連續(xù)光刻工藝，然后進行化學機械拋光，將掩模圖案轉移到TFLN襯底，實現單片集成有源無源波導陣列的制備。 K