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    [求助]低溫TI3O5  SIO2。RF輔助鍍膜。膜強(qiáng)度差。什么原因造成？ [復(fù)制鏈接]

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    離線repent134
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-03-30
    成膜后破壞鍍膜表層，用擦拭液擦拭膜層延展性比較大
     
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    離線yzhuang
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2023-03-30
    這個Ti3O5成膜溫度一般不能太低吧，建議150℃以上，低溫成膜牢固度與吸收均不夠理想，如果想低溫成膜，高折射率材料用Ta2O5可能更好一些 1 ;Ju]  
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    flyinlove79 光幣 +1 - 03-04
    離線repent134
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2023-03-30
    主要SIO2打底層，掉膜也是掉到了基板
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2023-03-30
    離子源&充氧&電子槍速率方面看下
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2023-03-31
    建議測一下溫度
    離線石前林
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 2023-03-31
    基片是否干凈，擴(kuò)散泵是否返油，第一層速率及離子源參數(shù) ?