|
|
時(shí)間地點(diǎn) 0/DO"pnL@ 主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司 \='LR!_ 協(xié)辦單位：蘇州黌論教育咨詢(xún)有限公司 3S_H& >K 授課時(shí)間：隨時(shí)隨地學(xué)習(xí) x[TLlV:{ 授課地點(diǎn)：黌論教育網(wǎng)校 rQT%~oM: 課程費(fèi)用：4500 元（包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金） #J/RI[a 授課講師：訊技光電高級(jí)工程師 >CrrxiG 學(xué)員要求：不需要任何軟件基礎(chǔ) V Zbn@1 *ilVkV"U 課程簡(jiǎn)介 _/Ve~(
" 當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測(cè)試要求時(shí)，既可以著手選用 "__)RHH:8 所需的基板，鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)開(kāi)始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手，例如 1ED7 .#g 高反射鏡不管波寬大小，開(kāi)始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)，倘若是 |)>+&
xk 截止濾光片，則應(yīng)以對(duì)稱(chēng)膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計(jì)無(wú)法滿(mǎn)足要求時(shí)，我們需 Xe&9| M 要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計(jì)電腦軟件來(lái)參與合成或優(yōu)化，設(shè)計(jì)好之后，即刻進(jìn)行 l* hWws[ 制造成功率分析，亦看膜層厚度的誤差值的容許度，若是鍍膜機(jī)的精密度做不到， 'vt Jl 則要修改設(shè)計(jì)，重新分析直到合格為止。 8*b{8%<K 課程涵蓋 Macleod 軟件所有模塊、光學(xué)薄膜膜系設(shè)計(jì)與優(yōu)化方法。培訓(xùn)期間 j<!dpt 針對(duì)實(shí)例，演示完整的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析過(guò)程。課程旨在讓各界相關(guān)技術(shù)人員 qm/>\4eLt 快速知悉軟件的各項(xiàng)功能的同時(shí)，并通過(guò)相關(guān)的實(shí)例演示掌握該軟件在光學(xué)鍍膜 e}{#VB< 領(lǐng)域的具體應(yīng)用。 o<lmU8xB=  nl(GoX$vRQ Q hRz57' 課程大綱： Ms5qQ<0v_ 1. 軟件基礎(chǔ)入門(mén) <L8FI78[* 軟件簡(jiǎn)介 `'iO+/;GY 軟件計(jì)算方法簡(jiǎn)介 J?#vL\8 程序基本框架和全局參數(shù)設(shè)置 T.z efoZ 程序中使用的各種術(shù)語(yǔ)的定義 rd%uc~/ 2. 圖表 Tw$t E: 繪圖和制表來(lái)表示性能3D 繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能 2K/t[.8 交互式繪圖的使用 -a| b.p 3. 材料管理 yR{rje* 材料的獲取 tR9iFv_ 材料的導(dǎo)入與導(dǎo)出 E71H=C 4 材料數(shù)據(jù)平滑與插值 iu<Tv,{8 用包絡(luò)法推導(dǎo)介質(zhì)膜的光學(xué)常數(shù) 4w9=z, 利用光譜儀的測(cè)量值計(jì)算基底光學(xué)常數(shù) X4\T=Q?uLx 材料模型擬合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) +<@1)qZ(E 4. 薄膜設(shè)計(jì)與優(yōu)化簡(jiǎn)介 U9PI#TX
&O 優(yōu)化與合成功能說(shuō)明 nnBS;5 優(yōu)化目標(biāo)&評(píng)價(jià)函數(shù)(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate %$b}o7U"s Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) HhC FAq"j 膜層鎖定和鏈接 WQCnkP 減反膜優(yōu)化 $;=^|I4E 高反膜優(yōu)化 1Z_w2D* 濾光片優(yōu)化 fO5L[U^` 斜入射光學(xué)薄膜 {I0!q"sF 5. 反演工程 jT0iJ?d,! 鍍膜過(guò)程中兩種主要的誤差（系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差）
|
