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- 注冊時間2020-06-19
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可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)是一種常用的技術(shù),由于其對光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度,而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中,如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲、平板制造等。在本用例中,我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂層上的使用。對于系統(tǒng)的參數(shù),我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用",并研究該方法對輕微變化的涂層厚度有多敏感。 yT /EHmJ iCG`3(xL suJ_nb Y,z??bm~J 任務(wù)描述 wjU.W5IR H(u+#PIIw Hy;Hs# /4S;QEv 鍍膜樣品 E+_&HG}a 關(guān)于配置堆棧的更多信息。 mxTk+j= 利用界面配置光柵結(jié)構(gòu)
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