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可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)是一種常用的技術(shù),由于其對光學參數(shù)的微小變化具有高靈敏度,而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應用中,如半導體、光學涂層、數(shù)據(jù)存儲、平板制造等。在本用例中,我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂層上的使用。對于系統(tǒng)的參數(shù),我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)概述。I. 基本理論和典型應用",并研究該方法對輕微變化的涂層厚度有多敏感。 ))'<_nD fIv*
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