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    [技術(shù)]SiO2膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-05-08
    可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對輕微變化的涂層厚度有多敏感。 N/`TrWVF  
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    任務(wù)描述 w^:V."}-$  
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    鍍膜樣品 (T>?8 K _d  
    關(guān)于配置堆棧的更多信息。 2uJNc!&  
    利用界面配置光柵結(jié)構(gòu) ? 6yF{!F*  
    一般光柵組件能夠?qū)χ芷谛越Y(jié)構(gòu)進(jìn)行建模。在各向同性的情況下，使用一個非常小的周期，以確保只有0階會傳播。二氧化硅層也是根據(jù)參考文獻(xiàn)來定義的。 Wx']tFn"  
    - 涂層厚度：10納米 |.Y@^z;P3  
    - 涂層材料。二氧化硅 Y|GJp h  
    - 折射率：擴(kuò)展的Cauchy模型。 FqT,4SIR  
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    𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 J1gEjd   
    - 基板材料：晶體硅 F_p3:l  
    - 入射角度。75° &;~2sEo,  
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    橢圓偏振分析儀 YJ$Vn >6Z  
    L5V'Sr  
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